無(wú)掩模納米光刻機(jī)

無(wú)掩模納米光刻機(jī)

交易信息：
完全轉(zhuǎn)讓-0.00 元
技術(shù)領(lǐng)域：
應(yīng)用領(lǐng)域：
最后更新時(shí)間：2022-07-28 15:36
所在地：
吉林省 長(zhǎng)春市 南關(guān)區(qū)
所有者：
飆飆
聯(lián)系方式：
13756056562
這套系統(tǒng)，在計(jì)算機(jī)的控制下可直接在光或熱阻薄膜材料上形成數(shù)十納米級(jí)任意形狀的納米構(gòu)造，可獲得導(dǎo)體，半導(dǎo)體和絕緣體的相應(yīng)構(gòu)造，可在制造納米電極和納米電路、生物醫(yī)療納米器件、超大規(guī)模電路的納米特征尺度掩膜等領(lǐng)域獲得廣泛應(yīng)用。納米無(wú)掩模光刻技術(shù)迎合了微納器件制造的發(fā)展趨勢(shì)，能克服目前的光刻技術(shù)由于掩模成本不斷增加所帶來的困難。

這套系統(tǒng)，在計(jì)算機(jī)的控制下可直接在光或熱阻薄膜材料上形成數(shù)十納米級(jí)任意形狀的納米構(gòu)造，可獲得導(dǎo)體，半導(dǎo)體和絕緣體的相應(yīng)構(gòu)造，可在制造納米電極和納米電路、生物醫(yī)療納米器件、超大規(guī)模電路的納米特征尺度掩膜等領(lǐng)域獲得廣泛應(yīng)用。納米無(wú)掩模光刻技術(shù)迎合了微納器件制造的發(fā)展趨勢(shì)，能克服目前的光刻技術(shù)由于掩模成本不斷增加所帶來的困難。


阿薩德1111245