極紫外（EUV）光刻膠材料

極紫外（EUV）光刻膠材料

交易信息：
完全轉(zhuǎn)讓-0.00 元
技術(shù)領(lǐng)域：
應(yīng)用領(lǐng)域：
最后更新時間：2022-07-28 15:21
所在地：
吉林省 長春市 南關(guān)區(qū)
所有者：
飆飆
聯(lián)系方式：
13756056562
具有自主知識產(chǎn)權(quán)的EUV光刻膠的成功研發(fā)，填補了我國在超高精細(xì)光刻膠研發(fā)領(lǐng)域的空白，將為擺脫國內(nèi)高檔光刻膠材料完全依賴進(jìn)口的格局，促進(jìn)我國集成電路制造產(chǎn)業(yè)的健康發(fā)展起到積極的促進(jìn)作用。在此工作的基礎(chǔ)上，以獲得的光刻膠主體材料為核心，通過配方和工藝研發(fā)，實現(xiàn)了193nm曝光機光刻，為我國開展193nm和193nm浸沒式光刻膠的研發(fā)打下了基礎(chǔ)。

具有自主知識產(chǎn)權(quán)的EUV光刻膠的成功研發(fā)，填補了我國在超高精細(xì)光刻膠研發(fā)領(lǐng)域的空白，將為擺脫國內(nèi)高檔光刻膠材料完全依賴進(jìn)口的格局，促進(jìn)我國集成電路制造產(chǎn)業(yè)的健康發(fā)展起到積極的促進(jìn)作用。在此工作的基礎(chǔ)上，以獲得的光刻膠主體材料為核心，通過配方和工藝研發(fā)，實現(xiàn)了193nm曝光機光刻，為我國開展193nm和193nm浸沒式光刻膠的研發(fā)打下了基礎(chǔ)。

阿薩德1111245