薄膜制備系統(tǒng)精準(zhǔn)到原子級別

薄膜制備系統(tǒng)精準(zhǔn)到原子級別

交易信息:
完全轉(zhuǎn)讓-0.00 元
技術(shù)領(lǐng)域:
應(yīng)用領(lǐng)域:
最后更新時(shí)間:2022-07-29 13:50
所在地:
吉林省 長春市 南關(guān)區(qū)
所有者:
飆飆
聯(lián)系方式:
13756056562
原子層沉積設(shè)備技術(shù)為國家科技重大專項(xiàng)02專項(xiàng)項(xiàng)目“32nm以下設(shè)備關(guān)鍵技術(shù)研究及創(chuàng)新設(shè)備技術(shù)探索”成果之一,研制產(chǎn)品針對32nm以下技術(shù)代原子層薄膜沉積(ALD)系統(tǒng)及相應(yīng)的高K柵介質(zhì)工藝驗(yàn)證及新材料設(shè)備工藝進(jìn)行探索。該機(jī)型突破“形核長大”薄膜材料生長原理,在國際上首創(chuàng)適變電場調(diào)制的原子層吸附生長方法,達(dá)到原子級別智能化,使得薄膜材料制備更精準(zhǔn)、更致密、更均勻。
阿薩德1111245